Look inside
|
Erwin Olaf & Hans Op de Beeck: Inspired by Steichen
ISBN: 9789464666205
(HB - EN)
€
Ter gelegenheid van de vijftigste verjaardag van Edward Steichens overlijden toont dit boek in een uitzonderlijke vormgeving het werk van twee eminente hedendaagse kunstenaars, de Nederlandse fotograaf Erwin Olaf (°1959) en de Belgische beeldend kunstenaar Hans Op de Beeck (°1969).
De unieke samenwerking tussen Olaf en Op de Beeck komt voort uit hun gedeelde bewondering voor het oeuvre van de Luxemburgse fotograaf Edward Steichen (1879-1973) en hun waardering voor elkaar. Dit boek plaatst Olafs serie 'Im Wald' naast aquarellen en sculpturen van Op de Beeck en landschapsfoto's van Steichen. Hoewel zeer verschillend ontstaan er verrassende verbanden tussen de drie kunstenaars: een rijkgeschakeerde presentatie van beelden in zwart, wit en grijstinten.
Deze publicatie verschijnt naar aanleiding van de tentoonstelling Erwin Olaf & Hans Op de Beeck: Inspired by Steichen in het National Museum of History and Art (MNHA) in Luxemburg van 16 december 2022 tot 11 juni 2023, gecureerd door Ruud Priem. Naast hun gezamenlijke expo presenteren Olaf en Op de Beeck als gastcuratoren ook een selectie foto's van Steichen in het Steichen-kabinet van het MNHA
|
